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消息称ASML将向中国推出“特供版”DUV光刻机

,根据DigiTimes报道,ASML试图规避荷兰新销售许可禁令,面向中国市场推出特别版DUV光刻机。 消息称如果该项目继续推进,中芯国际、华虹等中国半导体企业可以继续使用荷兰的...

,根据 DigiTimes 报道,ASML 试图规避荷兰新销售许可禁令,面向中国市场推出特别版 DUV 光刻机。

消息称如果该项目继续推进,中芯国际、华虹等中国半导体企业可以继续使用荷兰的设备生产 28 纳米及更成熟工艺的芯片。

图源 ASML

消息称该特别版 DUV 光刻机基于 Twinscan NXT: 1980Di 光刻系统改造,而 1980Di 是 10 年前推出的旧型号,不在本次官方禁令范围内。

1980Di 是 ASML 现有效率比较低的光刻机,支持 NA 1.35 光学器件、分辨率可以达到 lt;38 nm,理论上可以支持 7nm 工艺。

大多数晶圆厂使用 1980Di 光刻机,主要生产 14nm 及以上工艺芯片,很少使用其生产 7nm 芯片。

IT之家在此附上 DigiTimes 报道链接,感兴趣的用户可以点击阅读。

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